Räni ja liitpooljuhid
Western Minmetals (SC) Corporation WMC on täpsete dopingu- ja tõmbamistehnoloogiate abil 2–12-tollise monokristallilise või monokristallilise räni peamine tarnija.Czochralski CZjaUjuv tsoon FZpolükristallilisest ränist kristallide kasvatamiseks ja seejärel mitmekordse lõõmutamise, ümardamise, puhastamise, viilutamise, söövitamise ja poleerimise protsesside jms jaoks.Ühekristalliline ränion mõeldud peamiselt integraallülituste, dioodide, türistorite, transistoride, diskreetkomponentide tootmiseks,toiteseade, võimsus MOSFET, IGBT ja substraadina kõrge eraldusvõimega osakeste või optiliste detektorite jms jaoks.
Tänu standardsele CZ valuploki tõmbamisele loodud magnetvälja poolt indutseeritud MCZ ühekristallilise räni hapnikusisalduse, dislokatsiooni ja ühtlase takistuse muutumise ning suhteliselt madalama lisandite kontsentratsiooniga.FZ ränivertikaalse ujuvtsooni rafineerimistehnoloogia kasutuselevõtt, et tagada lisandi ühtlane jaotus, madalaim takistuse kõikumine, piirata lisandite kogust, märkimisväärne kandja eluiga ja lisaks kõrge eritakistusega eesmärk.Pealegi,FZ NTD (Neutronite transmutatsiooni doping) räni jaEpitaksiaalne ränivahvelEPI vastuvõetud CVD-d kasutatakse laialdaselt elektroonikaseadmete valmistamisel.
Maailmatasemel liitpooljuhtide pakkumine, mis hõlmab, kuid mitte vähemGalliumarseniidi GaAs, Indium Arsenide InAs, Gallium Antimoniid GaSb, Indium Antimoniid InSb,Indium fosfiid InP, Galliumfosfiid GaP, Silicon Carbide SiC, Gallium Nitride GaN jne LED-ide, nano-integraallülituste, võimsusvõimendite, optoelektrooniliste andurite, infrapunatuvastusseadmete, röntgendetektorite, jõuülekandeseadmete ja uute energiaallikate jaoks.Lisaks paljulubav ühendSafiir Alumiiniumoksiid Al2O3kristallist saab optoelektroonikas, kõrgsagedussuhtlus-, lennundus- ja astronautikatööstuses ülioluliseks materjaliks.