FZ NTD ränivahvel

Kirjeldus

FZ-NTD ränivahvel, tuntud kui ujuvtsooni neutrontransmutatsiooniga legeeritud ränivahv.Saadaval on hapnikuvaba, kõrge puhtusastmega ja kõrgeima eritakistusega räni by Float-zone FZ ( Zone-Floating) kristallide kasv, HKõrge eritakistusega FZ ränikristalli legeeritakse sageli neutrontransmutatsiooni dopingu (NTD) protsessiga, mille käigus neutronite kiiritamine legeerimata ujuvtsooni ränile moodustab räni isotoobid neutronitega lõksus ja laguneb seejärel soovitud dopantideks, et saavutada dopingu eesmärk.Neutronikiirguse taseme reguleerimise kaudu saab takistust muuta ilma väliseid lisandeid lisamata ja seega materjali puhtust tagamata.FZ NTD ränivahvlitel (Float Zone Neutron Transmutation Doping Silicon) on esmaklassilised tehnilised omadused – ühtlane dopingukontsentratsioon ja ühtlane radiaalne takistusjaotus, madalaim lisandite tase,ja suur vähemuskandja eluiga.

Kohaletoimetamine

Turu juhtiva NTD räni tarnijana paljutõotavate energiarakenduste jaoks ja järgides kasvavaid nõudmisi tippkvaliteediga vahvlite järele, on suurepärane FZ NTD räniplaatWestern Minmetals (SC) Corporation pakub oma klientidele kogu maailmas erinevat suurust alates 2″, 3″, 4″, 5″ ja 6″ läbimõõdust (50 mm, 75 mm, 100 mm, 125 mm ja 150 mm) ning laia erineva takistusega. 5 kuni 2000 ohm.cm suundades <1-1-1>, <1-1-0>, <1-0-0> lõigatud, lapitud, söövitatud ja poleeritud pinnaviimistlusega vahtkarbi või kasseti pakendis või kohandatud spetsifikatsioonina täiusliku lahenduse saamiseks.

Küsige kohe

Üksikasjad

Sildid

Tehniline kirjeldus

FZ NTD ränivahvel

Turu juhtiva FZ NTD räni tarnijana paljutõotavate energiarakenduste jaoks ja järgides kasvavat nõudlust tippkvaliteediga vahvlite järele, saab Western Minmetals (SC) Corporationi kvaliteetset FZ NTD räniplaati pakkuda oma klientidele üle kogu maailma erinevates suurustes alates 2 ″ kuni 6″ läbimõõt (50, 75, 100, 125 ja 150 mm) ja lai takistusvahemik 5 kuni 2000 oomi-cm in <1-1-1>, <1-1-0>, <1-0- 0> orientatsioonid lapitud, söövitatud ja poleeritud pinnaviimistlusega vahtkarbis või -kassetis, välispakendis või kohandatud spetsifikatsioonina täiusliku lahenduse saavutamiseks.

Ei.	Üksused	Standardne spetsifikatsioon
1	Suurus	2"	3"	4"	5"	6"
2	Läbimõõt	50,8±0,3	76,2±0,3	100±0,5	125±0,5	150±0,5
3	Juhtivus	n-tüüpi	n-tüüpi	n-tüüpi	n-tüüpi	n-tüüpi
4	Orienteerumine	<100>, <111>, <110>
5	Paksus μm	279, 381, 425, 525, 575, 625, 675, 725 või vastavalt vajadusele
6	Eritakistus Ω-cm	36-44, 44-52, 90-110, 100-250, 200-400 või vastavalt vajadusele
7	RRV max	8%, 10%, 12%
8	TTV μm max	10	10	10	10	10
9	Vööri/lõime μm max	30	30	30	30	30
10	Kandja eluiga μs	>200, >300, >400 või vastavalt vajadusele
11	Pinnaviimistlus	Lõikatud, lapitud, poleeritud
12	Pakkimine	Vahtkarp sees, pappkarp väljas.

Materjali põhiparameeter

Sümbol	Si
Aatomnumber	14
Aatomi kaal	28.09
Elemendi kategooria	Metalloid
Grupp, periood, plokk	14, 3, lk
Kristalli struktuur	Teemant
Värv	Tumehall
Sulamispunkt	1414 °C, 1687,15 K
Keemispunkt	3265°C, 3538,15 K
Tihedus 300K juures	2,329 g/cm³
Sisemine takistus	3,2E5 Ω-cm
CAS-i number	7440-21-3
EÜ number	231-130-8

FZ-NTD ränivahvelon ülimalt oluline rakendustes suure võimsusega, detektoritehnoloogiates ja pooljuhtseadmetes, mis peavad töötama ekstreemsetes tingimustes või kus on vaja väikest takistuse varieeruvust kogu plaadi ulatuses, nagu näiteks väljalülitatav türistor GTO, staatiline induktsioontüristor SITH, hiiglaslik transistor GTR, isolatsioonivärava bipolaarne transistor IGBT, ekstra HV dioodi PIN.FZ NTD n-tüüpi räniplaat on ka peamiseks funktsionaalmaterjaliks erinevatele sagedusmuunduritele, alalditele, suure võimsusega juhtelementidele, uutele jõuelektroonikaseadmetele, fotoelektroonikaseadmetele, ränialaldi SR, ränijuhtimisseadmele SCR ja optilistele komponentidele, nagu läätsed ja aknad. terahertsi rakenduste jaoks.